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總有機(jī)碳分析儀ZW-UC08

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檢品中的有機(jī)物在紫外線及二氧化鈦催化的作用下被氧化成二氧化碳,采用電導(dǎo)率檢測技術(shù)測定二氧化碳,通過電導(dǎo)率傳感器檢測經(jīng)氧化反應(yīng)器氧化后的檢品總碳(TC)與電導(dǎo)率傳感器檢測未經(jīng)氧化反應(yīng)器氧化的檢品總無機(jī)碳(TIC)之差,獲得樣品中總有機(jī)碳(TOC),即(TOC=TC-TIC)。在線可同時監(jiān)測8個點(diǎn)。
產(chǎn)品詳情

性能特點(diǎn)


1、可配8個檢測單元,一個數(shù)據(jù)終端,8個檢測單元可同時監(jiān)控。

2、Windows操作系統(tǒng),人性化操作界面。

3、高精度、高靈敏度,操作簡單。

4、同時顯示電導(dǎo)率值,并有TOC和電導(dǎo)率上限報(bào)警功能。

5、檢測上限可設(shè)定,自動上限報(bào)警功能。

6、設(shè)有校準(zhǔn)功能,可對設(shè)備進(jìn)行校準(zhǔn)。

7、三級權(quán)限功能。

8、數(shù)據(jù)直接儲存到電腦上,并可打印。


技術(shù)參數(shù)


1、電??源:AC220V±22V

2、頻??率:50HZ±1HZ

3、功??率:90W

4、TOC檢測范圍:0.001mg/l-1.0mg/l

5、檢測精度:±5%

6、檢測時間:4min/

7、響應(yīng)時間:9min

8、樣品流量:0.5ml/min

9、樣品溫度:1-95

10、環(huán)境濕度:85%RH

11、環(huán)境溫度:10-40

12、重復(fù)誤差:3%

13、零點(diǎn)漂移:±5%

14、量程漂移:±5%

15、線性誤差:±5%


應(yīng)用領(lǐng)域


1、該儀器可用于檢測制藥工業(yè)中純化水、注射用水和去離子水中有機(jī)碳的濃度;也可用于半導(dǎo)體行業(yè)中超純水TOC的檢測。

2、在制藥領(lǐng)域和生物化學(xué)領(lǐng)域清潔驗(yàn)證過程中,可用于驗(yàn)證清潔效果。

3、該儀器具有在線檢測功能,可以在線監(jiān)測制藥工業(yè)的制水系統(tǒng)、半導(dǎo)體工業(yè)的超純水制備系統(tǒng)和晶片工藝過程、電廠去離子水制備過程等。

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檢品中的有機(jī)物在紫外線及二氧化鈦催化的作用下被氧化成二氧化碳,采用電導(dǎo)率檢測技術(shù)測定二氧化碳,通過電導(dǎo)率傳感器檢測經(jīng)氧化反應(yīng)器氧化后的檢品總碳(TC)與電導(dǎo)率傳感器檢測未經(jīng)氧化反應(yīng)器氧化的檢品總無機(jī)碳(TIC)之差,獲得樣品中總有機(jī)碳(TOC),即(TOC=TC-TIC)。在線可同時監(jiān)測8個點(diǎn)。
產(chǎn)品詳情

性能特點(diǎn)


1、可配8個檢測單元,一個數(shù)據(jù)終端,8個檢測單元可同時監(jiān)控。

2、Windows操作系統(tǒng),人性化操作界面。

3、高精度、高靈敏度,操作簡單。

4、同時顯示電導(dǎo)率值,并有TOC和電導(dǎo)率上限報(bào)警功能。

5、檢測上限可設(shè)定,自動上限報(bào)警功能。

6、設(shè)有校準(zhǔn)功能,可對設(shè)備進(jìn)行校準(zhǔn)。

7、三級權(quán)限功能。

8、數(shù)據(jù)直接儲存到電腦上,并可打印。


技術(shù)參數(shù)


1、電??源:AC220V±22V

2、頻??率:50HZ±1HZ

3、功??率:90W

4、TOC檢測范圍:0.001mg/l-1.0mg/l

5、檢測精度:±5%

6、檢測時間:4min/

7、響應(yīng)時間:9min

8、樣品流量:0.5ml/min

9、樣品溫度:1-95

10、環(huán)境濕度:85%RH

11、環(huán)境溫度:10-40

12、重復(fù)誤差:3%

13、零點(diǎn)漂移:±5%

14、量程漂移:±5%

15、線性誤差:±5%


應(yīng)用領(lǐng)域


1、該儀器可用于檢測制藥工業(yè)中純化水、注射用水和去離子水中有機(jī)碳的濃度;也可用于半導(dǎo)體行業(yè)中超純水TOC的檢測。

2、在制藥領(lǐng)域和生物化學(xué)領(lǐng)域清潔驗(yàn)證過程中,可用于驗(yàn)證清潔效果。

3、該儀器具有在線檢測功能,可以在線監(jiān)測制藥工業(yè)的制水系統(tǒng)、半導(dǎo)體工業(yè)的超純水制備系統(tǒng)和晶片工藝過程、電廠去離子水制備過程等。

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